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<P> 北京,2022年4月6日-Atonarp,半導(dǎo)體工藝控制原位實時高靈敏度計量領(lǐng)域的領(lǐng)頭企業(yè),在全球范圍內(nèi)正式發(fā)布并銷售其Aston平臺。這是Atonarp公司全球發(fā)展進程中的一座重要里程碑。</P> <P align=center> <IMG border=0 src="/uploadfile/newspic/20220407151109803.jpg"></P> <P> Aston是一款緊湊型質(zhì)譜儀,可提供準確、實時的工藝化學(xué)數(shù)據(jù),其分子濃度測量靈敏度可達十億分之一。這些數(shù)據(jù)能讓半導(dǎo)體制造FAB實現(xiàn)高效運行,從而提高產(chǎn)量和吞吐量,為FAB運營商帶來巨大的經(jīng)濟利益。</P> <P> 隨著這一消息的宣布,Atonarp正向韓國和美國的領(lǐng)先半導(dǎo)體FAB和設(shè)備制造商交付了Aston Impact。此外,Atonarp還向客戶交付數(shù)十臺Aston,供客戶在其先進工藝中進行評估,以優(yōu)化其工藝和制造效率。</P> <P> Atonarp公司產(chǎn)品營銷副總裁Martin Mason說:“在分子水平上快速檢測、量化并提供可操作的工藝控制數(shù)據(jù)的能力,對于先進半導(dǎo)體制造工藝來說意義重大。對于一個典型的FAB來說,即使吞吐量只增加百分之一,每年也能增加數(shù)千萬美元的產(chǎn)量。Aston十分清楚其潛力,在這其中,速度和靈敏度對分子水平的工藝控制效率來說十分重要!</P> <P> 計量是半導(dǎo)體制造的一個重要部分,在生產(chǎn)設(shè)備內(nèi)測量多種氣體的濃度,可以確保滿足工藝余量,同時盡量減少浪費。以前的解決方案依賴于光發(fā)射光譜測量和殘余氣體分析儀,但這些傳統(tǒng)方法已不能滿足當今先進存儲器和邏輯工藝所需的速度和靈敏度。相反,Aston使用創(chuàng)新質(zhì)譜技術(shù),采用同類最佳傳感器,可提供快速的結(jié)果和出色的靈敏度,以及抵抗腐蝕性氣體和冷凝物所需的堅固性。</P> <P> Aston為先進半導(dǎo)體應(yīng)用提供可操作數(shù)據(jù),如原子水平沉積(ALD)和sub-fab操作等。Aston靈敏度低于十億分之平方根赫茲(9ppb√Hz),比競爭對手的解決方案高十倍,且不影響收集數(shù)據(jù)的速度。</P> <P> Atonarp正積極開展合作,為半導(dǎo)體領(lǐng)域的新應(yīng)用以及需要實時、敏感氣體分析的應(yīng)用(如石油和天然氣以及凍干法工藝控制)開發(fā)Aston平臺。</P> <P> Aston已取得多項認證和資格,包括EN55032(歐盟)、EN55035(歐盟)、FCC part 15(美國)、ICES-003(加拿大)、VCCI CISPR-32(日本)、BSMI(中國臺灣)、KC EMC(韓國)的EMI/EMC標準。憑借這些認證,Aston現(xiàn)已面向全球客戶批量發(fā)貨。</P> <P> Atonarp與韓國ATI公司合作,為該地區(qū)客戶提供蝕刻、CVD、空間ALD和Sub-fab應(yīng)用的綜合解決方案。</P>